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真空鍍膜業務

  • 所屬分類：真(zhen)空鍍膜業務
  • 瀏覽次數：1188次
  • 發布日期：2022/11/3 17:13:59
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  • 產品概述
本公司成(cheng)(cheng)功開發了在四面相向濺射法(fa)中實現高(gao)品質成(cheng)(cheng)膜的RAM陰極(ji)產品。
RAM陰極的(de)特點是，可在低(di)損(sun)傷、低(di)溫條件下成(cheng)膜，而且可確保鍍膜表(biao)面平(ping)滑氣泡等缺欠較少。

RAM陰(yin)極的(de)這些特點，使之(zhi)可廣泛應用(yong)于(yu)鈣鈦礦(kuang)型太陽能電池、有(you)機EL等各種領域。本(ben)公司的(de)實驗室內設有(you)搭載RAM陰(yin)極的(de)群集式濺鍍(du)設備，可對客戶(hu)提供的(de)基材進行鍍(du)膜(mo)試驗。


特點：


設備列表(biao):


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